Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 154 155 156 157 158 159 160... 494 495 496
|
|
|
|
,0е ю7ю\ ц, Вт/сп Рис. 5.2. Заатситн'очггь времени хд существования пузырька в расплаве меди от [ плотности потока Яо Ю-6 см [30]. Рост пузырька в объеме равномерно нагретой жидкости в первом приближении пропорционален корню квадратному из времени I за счет испарения в его объеме: г (0 = А2срУжАТ (лаП^Цпиуп), (5.20) где Уж — удельный объем жидкости; Чп — удельный объем пара при данной температуре; ср — удельная теплоемкость при постоянном давлении; ДГ — величина перегрева жидкости; А " л; 1,7 — постоянная. При лазерной обработке поверхности материала рост пузырька происходит в условиях увеличивающегося теплоподвода к его границе с течением времени из-за поверхностного испарения (движение пузырька навстречу границе испарения в системе координат, связанной с фронтом испарения). Расчеты показывают, что скорость всплывания пузырька оказывается малой и за время несколько миллисекунд он практически не перемещается в расплаве. Поэтому каждый пузырек в зависимости от величины 7о существует определенное время, если пренебречь его всплыванием в расплаве. Зависимость времени существования отдельного пузырька от плотности потока {на примере меди) приведена на рис.5.2. 6,0 6,5 7,0 1дц,8т/сл2 Рис. 5.3. Зависимое ь радиуса пузырька К в расплаве меди от плотности потока при различных перегревах АТ: — °с; 2 — 0,5 °с; 3 — 0,2 "с Результаты числовых расчетов зависимости радиуса пузырька в расплаве меди от плотности потока ЛИ к моменту, соответствующему продолжительности существования отдельного пузырька, представлены на рис. 5.3. В условиях эксперимента возможно раздельное наблюдение капель жидкой фазы, выносимых в результате процессов объемного парообразования и плавления-вымывания. Это обусловлено тем, что для второго процесса разлет Капель должен происходить преимущественно под некоторым углом к поверхности зоны воздействия излучения, в то время как процессы объемного парообразования обусловливают разлет капель и по нормали к поверхности расплава [27]. Увеличение плотности потока ЛИ и сокращения длительности импульса (т. е. переход к режиму модулированной добротности) приводит к уменьшению толщины слоя расплава (в пределе — слой поглощения излучения), прилегающего к поверхности испарения, повышению температуры в нем вплоть до критической и выше и сокращению времени жизни зародышевых пузырьков. Переход к таким условиям будет означать, что готовые центры парообразования уже не имеют большого значения по сравнению со спонтанными (флуктуационного происхождения), так как в слое поглоще
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 154 155 156 157 158 159 160... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
