Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 230 231 232 233 234 235 236... 494 495 496
|
|
|
|
валось от 1 до 15. Исследования показали, что глубина проникновения молибдена в матрицу за счет конвективного массо-переноса в жидкой фазе достигает 450—500 мкм. Изменения микротвердости по глубине зоны лазерного легирования приведены на рис. 7.21. На поверхность материала легирующий элемент наносился различными способами: накатыванием (фольги из легирующего элемента), электролитическим осаждением, детонационным покрытием, плазменным напылением, нанесением обмазки из порошка и связующего вещества и др. [73]. Все перечисленные способы имеют недостаток — значительное тепловое сопротивление между легирующим элементом и матрицей. Предполагается сочетать электроискровое легирование с лазерной обработкой. В этом случае лазерной обработке подвергается материал с предварительно нанесенным электроискровым способом выделяемым элементом. Такой способ нанесения покрытий обеспечивает хороший тепловой контакт между матрицей и нанесенным слоем вследствие образования переходного неоднородного слоя взаимодействующих металлов [731. При предварительном нанесении легирующих элементов электроискровым методом можно создавать многослойное покрытие из заданных компонентов достаточно большой толщины и без ухудшения теплопроводности образованной системы матрица — легирующие металлы или сплавы. Результаты экспериментальных исследований по лазерному легированию с предварительно нанесенным слоем различных легирующих элементов электроискровым способом на стали 45, 9ХС, Р6М5, У8А, титановый сплав ВТ6 приведены в работе [73]. Легирующие элементы (сплавы — Т15К6, ВК8, карбид вольфрама, нихром, металлы — алюминий, серебро, титан, вольфрам) наносились с помощью промышленной установки электроискрового легирования типа ЭФИ-ЮИ. Толщина легирующего материала изменялась от 30 до 50 мкм, а плотность излучения лазера при Hu-tO"!na W0 1200 1000 800 5d0 400 200 Г \ 2 У 3 и о Ч 7 \-*л-tl о 0,7 о, г 0,3 Z.nn Рнс. 7.21. Изменение микротвердости по глубине зоны лазерного легирования в арм ко-железе ванадием: 1 — Я ~ S Дж, n = 1; 2 Е = 3,5 Дж, п = 3; 3 — Е = 5 Дж, п = 3; 4 — Е = = 6 Дж, л = 3 импульсной обработке д & Ю5 Вт/см3. Качество поверхности после лазерного легирования с электроискровым способом нанесения легирующего элемента определяется технологическими режимами электроискрового нанесения легирующих элементов, энергетическими параметрами луча лазера, условиями обработки и т. д. При использовании в качестве легирующих элементов легкоплавких металлов или соединений снижается эффективность лазерного легирования. Так, лазерная обработка алитирован-ных образцов из стали 45 привела к значительному испарению нанесенного электроискровым способом алюминия из области воздействия и лишь незначительная часть его попадает в расплав [73]. Проведено исследование концентрации легирующих элементов при
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 230 231 232 233 234 235 236... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
