Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 324 325 326 327 328 329 330... 494 495 496
|
|
|
|
'б) в) г) 3) Рис. 9.11. Профиль отверстий в стали 45 при обработке импульсами различной длительности при постоянной энергии импульса (X 10): а 1.15 мс, 6 — 0,85 мс, в — 0,75 мс, г — 0,55 мс, д — 0,35 мс, е — 0,25 мс энергии импульса. Длительность импульса меняется с помощью вращающегося диска. Излучение после диафрагмы В = 10 мм фокусировали линзой /*" = 35 мм на поверхность образца из стали 45. Накачка лазерного вещества остается постоянной для сохранения неизменными выходных параметров излучения, а постоянство энергии от импульса к импульсу выдерживается подбором соответствующих светофильтров, применение которых не меняет иных параметров излучения, кроме интенсивности. Продольный шлиф отверстий, полученных импульсами излучения различной длительности приведен на рис 9.11. Значения глубины к и диаметра й отверстий, полученных импульсами излучения различной длительности сведены в табл. 9.2. Энергия импульсов £ выдерживается постоянной с точностью до 5—10 %. Увеличение длительности импульса с 0,25 до 0,85 мс приводит к увеличению глубины отверстия в 1,5 раза с одновременным уменьшением диаметра на 30 %. Зависимость глубины и диаметра получаемого отверстия от длительности импульса при неизменной энергии можно объяснить двумя факторами. Первый — распределение интенсивности излучения в поперечном сечеиии луча падает от своего максимального значения в центре луча к периферийным участкам его сечения. Применение светофильтров приводит к уменьшению плотности светового потока. На периферийных участках по мере умень шения пропускной способности светофильтров увеличивается размер области, в которой плотность потока меньше критической для начала плавления и испарения материала образца. Второй фактор — уменьшение экранирующего влияния продуктов разрушения материала при уменьшении плотности светового потока, когда длительность импульса увеличивается. Это объясняется увеличением доли жидкой фазы, которая остается на стенках отверстия и не может быть вытеснена из лунки из-за снижения давления паров и, таким образом, практически не участвует в экранировании излучения. Действительно, после изготовления продольных шлифов отверстий можно видеть, что при коротких импульсах (соответственно большей мощности) отверстия получаются с гладкой поверхностью, а по мере увеличения длительности импульсов волнистость поверхности все более увеличивается вследствие наплыва расплавленного металла В предельном случае, когда длительность импульса относительно велика а плотность све 9.2. Зависимость глубины й и диаметра й отверстий от длительности импульса генерации Е, Дж т, мс к 1 мм 5,4 0,25 2,2-108 1,2 0,42 2,9 5,1 0,35 1,5-108 1,3 0,39 3,3 5,9 0,55 1,Ы08 1,5 0,38 3,9 5,7 0,75 7,6-107 1,6 0,36 4,4 5,4 0,85 6,3І07 1,8 0,30 6,0 5,0 1,15 4,4-10' 1,6 0,26 6,1
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 324 325 326 327 328 329 330... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
