Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 399 400 401 402 403 404 405... 494 495 496
|
|
|
|
Глава Термические процессы электронно-лучевой технологии в микроэлектронике 13.1. Получение пленок и покрытий электроннолучевым испарением в вакууме В экспериментах [12] по глубокому сверлению металлов выбрасываемый из отверстия конденсат собирали на стеклянные пластины. Было установлено, что при испарении материала (алюминий, никель, титан) в режиме сверления (3 0,1) скорость осаждения достигает 1—3 мкм/с. При этом на поверхности пленок не обнаружено капель и брызг испаряемого материала, как при действии ЛИ, импульсной плазмы и при взрыве фольги. Так как скорости осаждения конденсата на 2—3 порядка выше скоростей, получаемых традиционными методами термического испарения в вакууме, а процесс высокоскоростного осаждения материалов можно реализовать на серийно выпускаемых электроннолучевых сварочных установках, целесообразно рассмотреть особенности получения паровой фазы импульсным ЭЛ. Нанесение пленок путем термического испарения в вакууме является одним из наиболее широко распространенных методов ]7, 22]. Однако недостатки этого метода (ограниченность скорости напыления, необходимость вакуума Ю-3—10~5 Па для уменьшения влияния остаточных газов, трудности с испарением многокомпонентных материалов), привели к разработке ряда принципиально различающихся методовионно-плазмен-ного осаждения П9], катодного распыления [25, 27], получения пленок из химических соединений с помощью ЭЛ [1, 4] и др. ^Недостатки метода термического испарения связаны с использование"-стационарного нагрева Ряд технологических приемов (метод "многих ис точников", "взрывное испарение" [27] приводит к определенным преимуществам, ио не исключает использования стационарного испарения. Использование импульсных методов получения пленок с применением потоков импульсной плазмы [16, 20], лазерного излучения [8, 28], ЭЛ, взрывающихся проволочки и фольги [6, 21], существенно повышает скорость испарения. Высокие скорости осаждения приводят к некоторым особенностям конденсации. Производительность стационарных и импульсных методов получения пленок. Основным преимуществом импульсного нанесения пленок является очень высокая скорость осаждения (до 1— 10 мкм/с) и возможность сохранения стехиометрического состава испаряемого материала. В обзоре Б. А. Осадина и Г. И. Шаповалова [17] проведено сравнение стационарных и импульсных способов нанесения пленок. За характерные признаки того или иного метода, по которым можно вести сравнение, приняты плотность частиц пара п и энергии частиц в потоке пара Е. На рис. 13.1 представлена диаграмма, с помощью которой сравнивают различные методы испарения. По оси абсцисс отложена энергия Е, отсчет которой ведется от Е = й, где й — скрытая теплота испарения на атом. Диаграмма построена для случая испарения железа, т. е. начало координат приходится на Е " 4 эВ (Йре " 4 эВ). Начало отсчета на диаграмме по оси ординат соответствует концентрации частиц воздуха при разрежении 10 * Па, т. е. давлении, при котором обычно получают пленки термическим испарением. Область энергий Е и соответствующих концентраций атомов пара ограничена сверху максимальной ^плотностью теплового потока 72 = = 105 Вт/см2, устанавливающейся при
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 399 400 401 402 403 404 405... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
