Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 400 401 402 403 404 405 406... 494 495 496
|
|
|
|
Получение плеибк й покрытий П, СП го го 30 40 Е,эВ Рис. 13.1. Диаграмма для сравнения различных способов получения пленок по производительности 117]: / — стационарное испарение; // — катодное испарение; /// — импульсное (электронно-лучевое и лазерное) испарение; IV — импульсные плазменные ускорители конденсации и соответствующей началу испарения. Стационарные методы испарения (термическое в вакууме, дискретное, электронно-лучевое и лазерное в непрерывном режиме) представлены на диаграмме узкой (несколько десятых долей электрон-вольт) полоской / у начала координат, вытянутой вдоль оси ординат до значений концентрации частиц пара, соответствующей скорости осаждения •—1СГ9 м/с. Катодное распыление занимает область //, которая несколько дальше простирается вдоль оси абсцисс, но значительно меньше поднимается вдоль оси ординат, обеспечивая скорость осаждения лишь до 0,31СГ8 м/с. Областями / и // на диаграмме по сути дела исчерпывается вся современная промышленная технология получения пленок. При этом область, например, электровзрывного испарения укладывается в область ///, а область конденсации ионных пучков в этом масштабе диаграммы практически совпадает с осью абсцисс или лежит несколько ниже ее. Импульсное электронно-лучевое и лазерное испарение вследствие его термического характера сдвигается вдоль энергетической оси по сравнению со стационарным незначительно (2—3 эВ), но не имеет в указанных пределах ограничения по концентрации и может обеспечивать скорость 510151,пА Рис. 13.2. Зависимость термического КПД *1Т проплавления коррозионно-стойкой стали от силы тока ЭЛ прн и = 20 кВ [26]: а — непрерывный режим; б — импульсный при а =" 0,37, t = 0,025 с, / = 15 Гц осаждения до 10~4—10~2 м/с (область /// на рис. 13.1). Область IV, допустимая по условиям испарения, может быть реализована с помощью плазменных испарителей. Таким образом, в целом импульсное испарение отличается более высокими параметрами п и Е в сравнении со стационарным и в сочетании с плазменными методами [3] может обеспечивать скорости осаждения до Ю-"*— КГ1 м/с [20]. Импульсный режим электронно-лучевого нагрева характеризуется повышенными в сравнении с непрерывным режимом значениями термического КПД т)т. Для случая проплавления коррозионно-стойкой стали ЭЛ установлено экспериментально [26], что при прочих равных условиях величина т)т в импульсном режиме примерно в 2 раза выше, чем в непрерывном (рис. 13.2). Высокая эффективность нагрева при переходе на импульсные режимы с О 0,1 приводит к резкому уменьшению количества жидкой фазы в зоне обработки. Практически вся она выбрасывается из отверстия и распыляется. Удельные энергетические затраты прн этом по сравнению с про-плавлением (0 = 1) уменьшаются, например, для алюминия в 6 раз и более. Выбор режимов импульсного электронно-лучевого напыления [12] аналогичен выбору режимов сверления, так как высокопроизводительный процесс напыления идет в режиме сверления испаряемого материала [24]. Высокоскоростное напыление материалов импульсным электронным лу
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 400 401 402 403 404 405 406... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
