Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 453 454 455 456 457 458 459... 494 495 496
|
|
|
|
Рис. (5.17. Схема оптической системы установки К-13: 1,3 — зеркала резонатора лазера; 2 — активный элемент; 4 — диафрагма; 5 — телескопическая система; 6 — светоделн-тельное. интерференционное зеркало; 7 — стопроцентное ннтерференциоккоезеркало; 8, 9 — объективы; 10, 11 — обрабатываемые детали; (І — вращающийся защитный ди-йк; ¿3 — ахроматические линзы; 14 — сетки; 15 — подвижный окуляр с целью получения высокой равномерности Распределения интенсивности излучения по сечению луча. Телескопическая система с увеличением 25^ расширяет диаметр лазерного луча &о размеров Иаски, равных 45 см. Проекционная система, состоящая из к.ол.яе.кт\"дасй д-ййзы и сй-ьекттаа, дает изображение маски на поверхности Рис. 15,18 Оптическая схема станка АК-345: / — излучатель; 2 — призма: 3 — объектив; 4 — деталь; 5 — подвижное зеркало; 6 — лииза; 7 — Окуляр; 8 — стеклянная пластина; 9 — электродвигатель обрабатываемой поверхности в масштабе 1 : 4. Микроскоп (с увеличением 25^) дозволяет точно совмещать обрабатываемые участки с изображением маски, проектируемые оптической системой при введении в ход лучей осветителя (состоит из лампы тл конденсатора). С использованием установки К-5 были получены тонко-пленоцяьге рисунки на площади 20 X X 20 мм2 с разрешающей способностью 30 дни)мм \18]. Оптическая схема установки "Квант-1?" приведена на рнс. 19, б, в излучателе которой использованы два активных элемента / из граната [22], помешанных в отдельные осветительные камеры. Источники пиления. Сретения о принципах построения источников питания различного типа лазеров, об их основных особенностях и др. МОЖНО яайти в ряде работ (см., например, [8, 9, 12, 13, 15, 18, 20, 28]). Источники питания используются для возбуждения газоразрядного промежутка газовых и твердотельных излучателей. Источник питания в газовых лазерах непосредственно возбуждает газоразрядную трубку, а в твердотельных лазерах — лампы накапки активного элемента, и в зависимости от режима
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 453 454 455 456 457 458 459... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
