Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 469 470 471 472 473 474 475... 494 495 496
|
|
|
|
Продолжение табл ¡5 8 Тип лазера Активная среда Частота повтореии я импульсов, Гц Длин а волны излуче чения X, мкм Мощность непрерывного излучения, Вт Энерги я нмпуль са излу. чения, Дж Длительность импупъ-си излучения х10", с Срок службы замены элемен тов, ч Назначение ЛУНД-100 С02— N2—Не Непрерывный режим 10,6 100 — — — Универсальная установка экспериментального типа ЛГИ-21 100 0,3371 — 10"5 і ю-8 500 Обработка тонких пленок и полупроводников "Сигнал-3" 150 0,3371 — ю-4 з ю-8 1000 Установка для обработки тонких пленок и полупро водников ЛГИ-37 Аг 100—700 0,5260 0,5330 0,5397 0,5955 6ю-4 3 10"7 100 Экспериментальная ЛГ-109 Аг Непрерывный режим 0,4880 1 — — 100 Экспериментальная ОКГ-19 Не—Cd То же 0,4416 0,3250 50 10"3 юю-3 — — 300 ЛГИ-17 5000 1,118 1,150 1,206 4Ю-3 8 Ю-5 300
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 469 470 471 472 473 474 475... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
