Лазерная и электроннолучевая обработка материалов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 478 479 480 481 482 483 484... 494 495 496
|
|
|
|
ныи торцовый катод прямого накала. В установке предусмотрены принципиально новая долговечная система освещения рабочей зоны в камере, а также новый восыинпозиционный механизм вращения свариваемых изделий, биение шпинделей которого не превышает 0,01 мм. Конструктивно установка состоит из блока питания и блока сварки, включающего рабочую камеру с приводом вращения свариваемых изделий и системой освещения рабочей зоны; электронно-оптическую систему с системой наблюдения за процессом сварки; агрегат откачки с блоком автоматического управления параметрами режима сварки. Техническая характеристика Ускоряющее напряжение ..........25 кВ Параметры электронного луча в режимах: сила тока луча, мА" непрерывного . .О—80 импульсного . .0—80 длительность импульсов, мс ......2 — 40 длительность паузы, мс.........5 — 200 моноимпульсный — ток луча в импульсе, мА........0—80 Регулирование величины, мА тока электронного луча...... Изменение анодного потенциала Эмиссионной системы Диапазон изменения анодного потенциала эмиссионной системы, КВ.........0—3 Размер сфокусированного электронного луча при 1 = 80 мА, мм . . .0,2 Внутренние размеры рабочей камеры (диаметр X длину), мм ... 300x 775 Габариты, мм . . . . 1 100X 1970X 2000 Экспериментальные характеристики структуры электронных лучей, генерируемых в установках типа ЛЭВ-80-1, получены с использованием зондирующей молибденовой диафрагмы (анализатора) с отверстием диаметром 17 мкм [16] для электронно-оптической системы типа А.852.26 (ускоряющее напряжение 20 кВ, ток луча 0—100 мА). Катод выполнен из гексаборида лаитаиа LaBe и работает J/Jrr. 1,0 \ 0,6 0,4 0,2 ) " " 1 = ,-(г/*н)г Л, \ 1г г/к„ Рис. 15.23. Распределение плотности тока в наименьшем сечении электронного луча ]16] в режиме ограничения тока эмиссии пространственным зарядом' (Т = = ¡870 К). На рис. 15.23 представлено сравнение расчетных (сплошная кривая) и экспериментальных значений плотности тока в наименьшем сечении электронного луча. По всей кривой наблюдается хорошее совпадение экспериментальных и теоретических данных. Максимальное отклонение от кривой Гаусса (6 %) наблюдается только у основания кривой на уровне J = (0,05-^0,06) Jm. Эти отклонения связаны с влиянием аберраций фокусирующей системы, вызывающих появление кружка рассеяния. Осциллограммы, снятые в различных сечениях электронного луча, показывают, что закон распределения Гаусса выполняется и на некотором расстоянии от плоскости наименьшего диаметра луча.
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 478 479 480 481 482 483 484... 494 495 496
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
